近日，央视发布消息称，我国自主研发的0.1纳米光镜镀膜设备已正式投入使用，标志着国产光刻机在照明电器及配套设备领域取得重大突破。这一进展被视为填补了国产高端光刻机产业链的关键空白，是推动半导体产业自主可控的重要里程碑。

光镜镀膜设备作为光刻机的核心部件之一，对于光源的精确控制和光学系统的稳定性具有决定性作用。此次投入使用的0.1nm级别设备，不仅实现了超精度的镀膜工艺，还显著提升了光刻机的分辨率和生产效率。其技术突破主要体现在材料科学、精密制造和自动化控制等多个方面，为国内半导体设备制造提供了强有力的支撑。

在照明电器及配套设备领域，国产光刻机长期以来依赖进口，尤其在高端光镜镀膜技术上存在短板。随着0.1nm光镜镀膜设备的成功应用，国产光刻机产业链得以进一步完善，降低了对国外技术的依赖。这不仅有助于提升我国在全球半导体市场的竞争力，还为下游芯片制造企业带来了成本优化和供应链安全的双重利好。

这一技术的推广应用将加速国产光刻机的迭代升级，推动5G、人工智能、物联网等新兴领域的快速发展。同时，相关部门和企业应持续加大研发投入，强化产业链协同，确保我国在高端制造领域保持领先地位。